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硅片表面金屬雜質(zhì)檢測(cè)

硅片是半導(dǎo)體制造業(yè)的基礎(chǔ)材料，硅片表面極其少量的金屬雜質(zhì)元素污染都可能造成器件的功能喪失或者可靠性變差，隨著半導(dǎo)體制程的不斷提高，對(duì)金屬離子污染物的控制也越來(lái)越嚴(yán)格。萊伯泰科提供了融合穩(wěn)定、可靠、高靈敏度的ICP-MS產(chǎn)品，幫助半導(dǎo)體制造商在生產(chǎn)過(guò)程中執(zhí)行檢測(cè)并減少污染，即使在高基質(zhì)環(huán)境下，也可對(duì)晶圓制造的每個(gè)階段中的金屬雜質(zhì)類型、來(lái)源和含量進(jìn)行準(zhǔn)確的檢測(cè)。此外，萊伯泰科的經(jīng)驗(yàn)豐富的工程師們將作為硅片生產(chǎn)企業(yè)及Fab工廠的堅(jiān)實(shí)后盾，提供多方位技術(shù)支持。

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